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近紫外線製品 (400 ~ 420nm)

高速でフル プログラマブルな構造化光およびパターン投影アプリケーションで使用する近紫外線 (NUV) 波長向けに最適化済み

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TI の DLP® 技術を採用した、専用設計の近紫外線 (NUV) デバイスは、3D スキャンとマシン ビジョン向けの高速チップ製品ラインアップを拡充しています。プログラマブルなパターン、スケーラブルなプラットフォーム、高速ピクセル データ レートという特長を活用し、革新的な構造化光設計と、420nm を下回る他のパターン生成ソリューションを実現することができます。サード パーティーの光学モジュール、アルゴリズム ソフトウェア、設計サポートを活用すると、設計を迅速に開始できます。 

設計と開発に役立つリソース

光学モジュール
DLP® 製品サードパーティの検索ツール

お客様の設計ニーズを最適な方法で満たし、市場投入までの期間を短縮できるように、DLP® Products は、さまざまなサード・パーティーと連携します。これらのサード・パーティーは、光学モジュールやハードウェアの設計から、専用ソフトウェアやその他の量産サービスまで、あらゆる支援を行っています。以下に示す検索ツールの一方または両方をダウンロードすると、TI のサード・パーティー各社を手早く参照すること、またはお客様のニーズに適した特定の光学モジュールを見つけることができます。掲載されている各種製品、ソフトウェア、サービスの製造と管理を実施しているのは、TI (テキサス・インスツルメンツ) (...)

リファレンス・デザイン
高速 DLP サブシステム、工業用 3D 印刷、および、デジタル・リソグラフィ用、リファレンス・デザイン

高速 DLP® サブシステム・リファレンス・デザインは、高分解能、高速性、高信頼性が求められる産業用デジタル・リソグラフィーと 3D プリント・アプリケーション向けのシステム・レベルの DLP 開発ボード設計用のリファレンス・デザインを提供します。このリファレンス・デザインは最高分解能の DLP デジタル・マイクロミラー・デバイス DLP9000X と最高速のデジタル・コントローラ DLPC910 を統合することにより、最大のスループットを実現しています。さらに、400 万個以上のマイクロミラー(WQXGA 解像度)を搭載することにより、60 (...)

評価ボード
DLP® 0.65-インチ、1080p、S600デジタル マイクロミラ デバイス(DMD)評価基板

このDLP評価基板(EVM)には、0.65-インチ2xLVDSデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)である DLP6500FYEが搭載されています。このDMDには、7.56-µmピッチの1920 x 1080マイクロミラーが搭載されています。DLPLCRC900EVMと組み合わせることで、ユーザーは最大9,523-Hzの1ビット パターン レートでピクセル単位の正確な制御が可能になります。

DLPLCR65EVM は、DLP テクノロジーをさまざまな光操作アプリケーションに組み込むためにフレキシビリティの高い開発キットを必要とする設計者の皆様にとって、適切な評価選択肢になります。この EVM (...)