UV 產品 (< 400 nm)

使用近紫外線波長進行 3D 列印和數位直接曝光最佳化,以獲得可靠、高精確度、高光學功率與高速工業效能

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DLP 3D 列印與直接成像產品採用特別設計的紫外線裝置,具備精準的像素控制、靈活資料載入與快速,最適合高速、高精度的數位曝光應用。這些產品支援從樹脂式 SLA 3D 列印到數位曝光應用的 400nm 以下應用,例如 PCB 的雷射直接成像 (LDI)、進階封裝、FPD 與半導體晶圓等。此外也提供第三方支援,讓您迅速開始設計。

設計與開發資源

光學模組
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開發板
DLP7000UV DMD 評估板
此 DLP 評估模組 (EVM) 內建 DLP7000UV,是一款 0.7 UV XGA 2xLVDS A 型 DMD,適用於使用 363 – 420 nm 紫外線 (UV) 照明光源的應用。
開發板
DLPLCRC410 評估模組
DLPLCRC410EVM 是一個評估平台,與其他五種 DMD 架構的 EVM 之一搭配使用,可為微影、3D 列印 (SLS 和 SLA)、機器視覺以及標記和編碼等應用展示先進的光學控制。此 EVM 可評估新客戶照明光源、光學元件、演算法和曝光程序,以加快 DLP 技術的潛在評估、客戶學習週期與上市時間。