JAJSI02D October 2019 – November 2020 TMP63
PRODUCTION DATA
シリコン・リニア・サーミスタ TMP63 は、線形の正温度係数 (PTC) により、広い動作温度範囲にわたって安定した温度係数抵抗 (TCR) を実現します。テキサス・インスツルメンツは、デバイスのドーピング・レベルとアクティブ領域面積で主要な特性 (抵抗温度係数 (TCR)、公称抵抗値 (R25)) を制御する特殊なシリコン・プロセスを採用しています。このデバイスは、極性を持つ端子に起因するアクティブ領域と基板から成ります。正の端子は高電位側に接続し、負の端子は低電位側に接続します。
単なる抵抗デバイスである NTC とは異なり、TMP63 の抵抗値は温度に応じて変化するとともに、デバイスを流れる電流の影響を受けます。分圧器回路では、抵抗の最大値を 100kΩ 以下にすることが推奨されます。抵抗の最大値または VBIAS 値を変更すると、TMP63 の抵抗対温度表 (R-T 表) が変わり、これによって「Topic Link Label9.2.1.1」セクションに記載する多項式も変化します。詳細な情報は、Topic Link Label8.3.1 でご確認ください。
Equation1 を使用すると TCR の近似値を求めることができます。
主要な用語と定義