DLPLCRC410EVM
DLPLCRC410 評価基板
DLPLCRC410EVM
概要
DLPLCRC410EVM は、他の 5 つの DMD ベース評価基板の 1 つと組み合わせて使用し、リソグラフィー、3D プリンティング (SLS および SLA)、マシン ビジョン、マーキング、コーディングなどのアプリケーションに対応する高度なライト コントロールを行うための評価プラットフォームです。この EVM を使用して、お客様の新しい照射用光源、光学素子、アルゴリズム、露光プロセスを評価することで、DLP テクノロジーの潜在的な評価、顧客学習サイクル、市場投入を迅速に行うことができます。
特長
- 5 種類の DMD に対するライト コントロール
- 最大 32kHz のバイナリ パターン レート
- 最大 1.9kHz のグレイスケール パターン レート
- 2 個の LVDS DDR 入力データ インターフェイス、400Mhz のクロック レート
- DMD 行のランダム アドレッシングをサポート
- 電源は付属していません
紫外線製品 (400nm 未満)
開始する
- 対応する DMD 評価基板 (EVM)、コントローラ評価基板 (EVM) DLPLCRC410EVM、対応する電源をご注文いただけます
- DLP Discovery 4100 のユーザー ガイドを読みます
- DLPC133 GUI と DLPC134 ソフトウェアをダウンロードします
- DMD 評価基板 (EVM) とコントローラ評価基板 (EVM) DLPLCRC410EVM-DF の設計ファイルをダウンロードします
購入と開発の開始
DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 の評価モジュール
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
製品
0.47 インチ以上のアレイを使用する製品
0.47 インチ以下のアレイを使用する Pico 製品
紫外線製品 (400nm 未満)
可視光製品 (420 ~ 700nm)
分光器と光学ネットワーク製品
車外照明 / 投影製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ディスプレイ製品
近赤外線製品 (> 700 nm)
マルチチャネル IC (PMIC)
ハードウェア開発
評価ボード
開発キット
光学モジュール
リリース情報
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Copyright © 2024 Texas Instruments Incorporated - http://www.ti.com/
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Product name: DMD Diffraction Efficiency Calculator
Version: 1.0.0.0
Date: May 2024
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DESCRIPTION
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The DMD Diffraction Efficiency Calculator is used to help customers understand how to model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency with their specific DMD input parameters and will be modeled to the customers specific design.
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REVISION HISTORY
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* Initial release
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RESTRICTIONS
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* Tested on Windows 10.
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CONTACT US
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At http://e2e.ti.com/
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DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DLP-OPTICAL-DESIGN — DLP-OPTICAL-DESIGN-GUIDELINES
DLP-OPTICAL-DESIGN — DLP-OPTICAL-DESIGN-GUIDELINES
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
0.47 インチ以上のアレイを使用する製品
0.47 インチ以下のアレイを使用する Pico 製品
紫外線製品 (400nm 未満)
可視光製品 (420 ~ 700nm)
分光器と光学ネットワーク製品
車外照明 / 投影製品
ディスプレイ製品
近赤外線製品 (> 700 nm)
マルチチャネル IC (PMIC)
ハードウェア開発
評価ボード
開発キット
光学モジュール
リリース情報
The DLP optical design guidelines presentation provides a comprehensive overview of the guidelines specific to designing an optical system with DLP Products and will help enable customers in their design process.
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
設計ファイル
技術資料
種類 | タイトル | 英語版のダウンロード | 日付 | |||
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* | EVM ユーザー ガイド (英語) | DLP Discovery 4100 Development Kit Software EVM User’s Guide (Rev. C) | PDF | HTML | 2024年 7月 31日 | ||
証明書 | DLPLCRC410EVM EU Declaration of Conformity (DoC) | 2023年 7月 14日 | ||||
アプリケーション・ノート | Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) | 2019年 12月 17日 | ||||
ホワイト・ペーパー | 大出力 NIR レーザー・システムは TI の DLP® 技術の利点を活用しています。 | 英語版 | 2019年 1月 11日 | |||
ユーザー・ガイド | Discovery 4100 APPSFPGA PGen Design (Rev. A) | 2018年 12月 4日 | ||||
ユーザー・ガイド | DLP Discovery 4100 Controller Board API Programmer’s Guide (Rev. A) | 2018年 12月 3日 | ||||
アプリケーション・ノート | DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) | 2018年 2月 23日 | ||||
アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. B) | PDF | HTML | 2015年 7月 15日 | |||
アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP Technology Down to 400 nm | 2014年 11月 12日 |